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第二届中国国际数码摄影艺术展览
来源:丽水摄影博物馆  作者:方圆  时间:2012/2/6

  1月19日,第二届中国国际数码摄影艺术展览在丽水摄影博物馆开展,吸引了众多摄影爱好者前来参观。

  “ 中国国际数码摄影艺术展览 ” 由中国丽水摄影博物馆主办,从2010年开始每年举办一届,旨在促进世界摄影的交流和发展,发掘优秀的摄影师,呈现近年来世界摄影所取得的成就。

  第一届中国国际数码摄影艺术展览共收到来自24个国家100余位摄影师投寄的1200多幅摄影作品,首届展览于2011年1月在丽水摄影博物馆成功举办,参观观众近万名,展览同时受到了丽水市各级领导和摄影业内专家的高度评价。2011年展开的第二届中国国际数码摄影艺术展览经过将近一年的征集、评选,于2011年9月在北京圆满完成评选工作,本届展览还获得了美国摄影学会支持(PSA ),在彩色组和单色组分别增设了美国摄影学会金银铜奖。本届来稿国家和地区、参赛作者及参赛作品与上届基本持平,作品质量有明显提高。

  数码技术给摄影带来了巨大的变化,拍照不再是少数人的专属,它已经进入到千家万户的日常生活中。每个经典瞬间都会被 “ 曝光 ” ,并记录下来。

丽水摄影博物馆